概述
在(zai)半(ban)導(dao)體(ti)和(he)微(wei)電(dian)子(zi)清(qing)洗(xi)工(gong)藝(yi)方(fang)麵(mian)，業(ye)內(nei)正(zheng)在(zai)逐(zhu)步(bu)淘(tao)汰(tai)使(shi)用(yong)刺(ci)激(ji)性(xing)化(hua)學(xue)品(pin)的(de)方(fang)案(an)，改(gai)用(yong)更(geng)環(huan)保(bao)的(de)臭(chou)氧(yang)水(shui)處(chu)理(li)方(fang)案(an)。這(zhe)種(zhong)方(fang)案(an)節(jie)省(sheng)了(le)昂(ang)貴(gui)的(de)廢(fei)物(wu)處(chu)理(li)，可(ke)在(zai)室(shi)溫(wen)條(tiao)件(jian)下(xia)進(jin)行(xing)操(cao)作(zuo)，成(cheng)本(ben)更(geng)低(di)。
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臭氧化模組
幾十年來，戈爾的臭氧化模組為矽晶圓、邏輯芯片和存儲芯片的製造、平板顯示器(FPD)和光掩膜的表麵處理和去除有機汙物，提供了更安全、環保、經濟的清洗工藝。
戈爾的臭氧化模組比目前市場上的方案更勝一籌，提供的臭氧溶解模組能生成更潔淨、無(wu)氣(qi)泡(pao)的(de)臭(chou)氧(yang)水(shui)，而(er)且(qie)保(bao)持(chi)穩(wen)定(ding)一(yi)致(zhi)的(de)高(gao)濃(nong)度(du)和(he)流(liu)量(liang)。戈(ge)爾(er)的(de)臭(chou)氧(yang)化(hua)模(mo)組(zu)久(jiu)經(jing)驗(yan)證(zheng)，是(shi)改(gai)進(jin)半(ban)導(dao)體(ti)和(he)微(wei)電(dian)子(zi)及(ji)平(ping)板(ban)顯(xian)示(shi)器(qi)製(zhi)程(cheng)清(qing)洗(xi)工(gong)藝(yi)的(de)可(ke)靠(kao)解(jie)決(jue)方(fang)案(an)。
